[반도체실무과정] 8대공정 : 불순물 주입 및 확산 공정

  • 고용보험의 훈련범위와 상관없이 자유롭게 수강할 수 있습니다.
    일반 수강생을 대상으로 교육을 진행하며,
    환급절차 없이 진행되는 과정입니다.
    (직장인/비직장인/대학생/주부 등 모두 이용 가능)
개강 및 종강
신청한 일자로 부터 30일
(금일기준 2024년 09월 29일 ~ 2024년 10월 29일)
학습기간

30일 + 무료 추가복습기간 제공
수료기준 진도 100% 이상 , 시험 0회 , 과제 0회 상세보기
교육비정가 71,060 원
실결제금액 71,060 원
  • 과정소개
  • 학습대상
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  • 교수소개
  • 교재정보
  • 학습내용
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과정 소개 [반도체실무과정] 8대공정 시리즈
학습 대상 반도체 제조 공정 관련 직무 종사자
학습 목표 반도체 8대공정 중 불순물 주입 및 확산 공정에 대해 설명할 수 있다.
교수 소개 엄중섭
교재 정보
학습내용
차시 내용
1차시 1. CMOS 소개와 Implant 용어 정리
2차시 2. 이온 주입의 개요
3차시 3. 이온 주입에 의한 농도분포
4차시 4. Ion Implant Channeling
5차시 5. 결함의 발생과 Annealing (1)
6차시 6. 결함의 발생과 Annealing (2)
7차시 7. 집적회로에의 응용
8차시 8. Process Evaluation & Technology Trend
9차시 9. Diffusion의 개요
10차시 10. 산화공정 개요
11차시 11. Si/SiO2 계면과 산화막의 용도
12차시 12. 산화 속도의 영향 요소와 SiO2/Si 계면 전하
13차시 13. 불순물의 재분포와 Oxide Quality 요구 조건
14차시 14. 확산의 정의
15차시 15. ANNEAL
16차시 16. 확산 공정의 측정, 평가 및 불량 유형
평가기준
평가항목 진도율 시험 과제 진행단계평가 수료기준
평가비율 - 0% 0% 0% -
수료조건 100% 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상
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