반도체 공정기초 및 양산설비

  • 고용보험의 훈련범위와 상관없이 자유롭게 수강할 수 있습니다.
    일반 수강생을 대상으로 교육을 진행하며,
    환급절차 없이 진행되는 과정입니다.
    (직장인/비직장인/대학생/주부 등 모두 이용 가능)
개강 및 종강
신청한 일자로 부터 30일
(금일기준 2024년 09월 30일 ~ 2024년 10월 30일)
학습기간

30일 + 무료 추가복습기간 제공
수료기준 진도 100% 이상 , 시험 0회 , 과제 0회 상세보기
교육비정가 35,640 원
실결제금액 35,640 원
  • 과정소개
  • 학습대상
  • 학습목표
  • 교수소개
  • 교재정보
  • 학습내용
  • 평가기준
과정 소개 반도체 공정기초 및 양산설비 과정
학습 대상 반도체 개발 장비 관련 직무 종사자
학습 목표 반도체 공정기초에 대해 설명할 수 있다. 
반도체 양산설비에 대해 설명할 수 있다.
교수 소개

김준성
교재 정보
학습내용
차시 내용
1차시 1. 반도체 Fab과 Utility
2차시 2. 산화 공정
3차시 3. CVD
4차시 4. PECVD
5차시 5. LPCVD
6차시 6. APCVD와 HDPCVD
7차시 7. MOCVD와 ALD
8차시 8. PVD
9차시 9. Photo Lithography
10차시 10. Etching
11차시 11. Wet Etching과 반도체 설비 동향
평가기준
평가항목 진도율 시험 과제 진행단계평가 수료기준
평가비율 - 0% 0% 0% -
수료조건 100% 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상 0점 이상
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